型号规格：PDC—002
整机规格：9×18×11（长×宽×高）英寸  (228×457×279)mm
反应舱规格：Φ6×L6英寸耐热玻璃  (Φ152×L152)mm
反应舱有效容积：2.8L
输入电源：220 V／50Hz
整机输入功率：200 W
射频输出档：低档716V DC、10mA DC、7.16W
            中档720V DC、15mA DC、10.15W
            ***740V DC、40mA DC、29.6W
常用工作气体：空气、氩气、氮气或混合气体等
特征：紧凑的台式设备，没有RF幅射，符合CE安全标准。反应舱盖具备铰链、磁力锁及可视窗口。
选配件：石英等离子清洗舱
提供各自计量两种不同气体进气和监测压力的气体计量混合器Plasma Flo^TM
需要：兼容的真空泵，最小速率为1.4 m³/hr，极限为200 MTorr。
包括：1/8英寸NPT针阀束引入气体和控制压力

Harrick等离子清洗机简介
 

Harrick Plasma公司的等离子清洗器是一种小型化、非破坏性的超清洗设备。等离子清洗器采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗器外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被***地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
应用
清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗半导体元件、印刷线路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉积凝胶的基片。
高分子材料表面修饰。
牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
功能
对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 （如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗。
改变某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。
清除金属材料表面的氧化层。
对被清洗物进行消毒、杀菌。
优点
完全***地清除表面有机污染物。
清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。
非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。
绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。
常温条件下清洗，被清洗物的温度变化微小。
能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。