| 品牌:德国 SENTECH | 型号:SI 500 PPD | 规格:1200x1500x2700 |
| 别名:化学气相沉积系统 | 适用机械:化合物半导体领域的薄膜沉积 | 应用:主要应用于微电子,化合物半导体,光电子等领域的薄膜沉积 |
德国 SENTECH SI 500 PPD 等离子增强化学气相沉积系统
等离子增强化学气相沉积系统/PECVD
德国SENTECH公司SI500 PPD
1、主要应用于微电子,化合物半导体,光电子等领域的薄膜沉积
2、平板CCP式等离子增强化学气相沉积系统,采用标准的基于硅烷的PECVD工艺,制备高质量的SiO2、SiOxNy、SixNy和a-Si膜
3、标准的PECVD系统,配置带干泵的预真空室,真空反应腔配置罗茨泵,前级泵和涡轮分子泵
4、具有很高的工艺稳定性和重复性,配置SENTECH等离子工艺系统软件,适用于8寸样片
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