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平板CCP式等离子增强化学气相沉积系统,采用标准的基于硅烷的PECVD工艺,制备高质量的SiO2、SiOxNy、SixNy和a-Si膜,配置SENTECH等离子软件和LOADLOCK,具有很高的稳定性和重复性

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产品推荐
品牌:德国 SENTECH型号:SI 500 PPD规格:1200x1500x2700
别名:化学气相沉积系统适用机械:化合物半导体领域的薄膜沉积应用:主要应用于微电子,化合物半导体,光电子等领域的薄膜沉积
德国 SENTECH SI 500 PPD 等离子增强化学气相沉积系统

等离子增强化学气相沉积系统/PECVD

德国SENTECH公司SI500 PPD

1、主要应用于微电子,化合物半导体,光电子等领域的薄膜沉积

2、平板CCP式等离子增强化学气相沉积系统,采用标准的基于硅烷的PECVD工艺,制备高质量的SiO2、SiOxNy、SixNy和a-Si膜

3、标准的PECVD系统,配置带干泵的预真空室,真空反应腔配置罗茨泵,前级泵和涡轮分子泵

4、具有很高的工艺稳定性和重复性,配置SENTECH等离子工艺系统软件,适用于8寸样片


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上海柏昆电子科技有限是由一批在微电子、半导体制造领域有多年销售服务经验的技术人员创建,公司专注于半导体、微组装和集成电路领域内的设备集成、销售和技术服务。我们专注于集成电路、混合模块。光电模块、MEMS,3D封装,功率器件,微纳米加工等领域。目前已与国际多家知名半导体设备制造企业建立了合作关系,为客户提供优质的产品和服务。我们秉承“客户至上,锐意进取”的宗旨,从客户的实际需求出发,为客户提供最适合的解决方案,并提供持续而良好的售后服务。柏昆电子期待未来与您合作!

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注册资本 200万人民币
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