深圳市众诚达应用材料科技有限公司专业磁控溅射加工服务企业，有着丰富的镀膜加工及设备的设计制造经验，磁控溅射是为了在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

Cu平面靶和铌旋转靶

    深圳市众诚达应用材料科技有限公司是一家专业从事薄膜材料研发、生产、与销售的高新技术企业，工厂位于深圳市宝安区。公司主要生产经营磁控溅射镀膜靶材与靶材绑定。

    陶瓷旋转靶材采用烧结及绑定工艺，可生产长度4000m，单片长度250mm，厚度根据客户要求定制。

AZO陶瓷旋转靶: