空气等离子表面处理机产品应用产业

．STN-LCD、TFT-LCD、OLED或PDP之COG或OLB制程前的ITO电极表面清洁

．COF (ILB) 或COB制程的电极表面清洁

．LCD或OLED的玻璃清洁

．IC封装（Flip Chip, CSP, BGA, TCP, or Lead Frame, etc.）或LED封装的表面清洁或改质

．PCB的表面清洁、活化、改质或去残胶

．晶圆的表面清洁或去光阻

．工业电子组件之表面清洁、活化或改质

．印刷或粘着前之表面粗化或清洁

．镀膜、去光阻及蚀刻

等离子清洗原理

等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四中状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。

等离子体清洗的机理

主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

等离子体清洗技术的最‘大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。