无机污染物质

与有机污染物相比水中无机污染物的种类较少，最常见的主要是重金属离子和氰离子。光催化技术可以利用光致电子的还原能力去除水中的金属离子及其他的无机物，目前的研究包括 Mn7+、 Cr6+、 Fe3+、 Ni2+、 Hg2+、 Cu2+、 Pb2+、 Ag+、 CN-、 CSN-、 NO2等。刘淼等，直接以太阳光为光源，用 ZnO/TiO2 处理电镀含Cr（Ⅵ）废水，并加入廉价光催化辅助剂，对电镀含铬废水多次处理，使六价铬光致还原为三价铬，再以氢氧化铬形式除去三价铬；达到处理电镀废水的目的。王桂林等利用光催化在柠檬酸根离子存在下，Hg2+、 Pb2+从含氧溶液中被 e-分别还原成 Hg、Pb 沉积在 TiO2 表面；以 ZnO/WO3 为催化剂，在可见光下照射 110 min 可将 1.0× 10-4 g/mL的 Hg2+几乎完全还原。

1972

年，Fujishima和 Honda在n—型半导体TiO2电极上发现了光催化裂解水反应，在Nature上发表了“Electrochemical

photolysis of water at a semiconductor electrode”，揭开了多相光催化新时代的序幕。

1976

年John. H .Carey等研究了多氯lian苯的光催化氧化，被认为是光催化技术在消除环境污染物方面的***性研究工作。

1977

年，YokotaT等发现在光照条件下,TiO2对丙烯环氧化具有光催化活性，从而拓宽了光催化的应用范围，为有机物氧化反应提供了一条新的思路。

自1983

年起，A.L.Pruden和D.Follio就烷烃、烯烃和芳香烃的氯化物等一系列污染物的光催化氧化作了连续研究，发现反应物都能迅速降解。

1989

年，Tanaka.K 等人***有机物的半导体光催化过程由羟基自由基（OH）引起，在体系中加入H2O2可增加OH的浓度。

进入了90

年代，随着纳米技术的兴起和光催化技术在环境保护、卫生保健、有机合成等方面应用研究的发展迅速，纳米量级的光催化剂的研究，已经成为国际上最活跃的研究领域之一。

印染废水

现在传统的处理方法，比如，吸附法，电化学法，电凝法，生物法等，只能把污染物从一种物相转化为另一种物相，不能使污染物得到***分解或无害化，而光催化氧化能够把印染废水中的有害物质***分解为

H2O、 CO2 等有机小分子和其他无害物质，消除了二次污染。王成国采用纳米级 TiO2 悬浮法光催化氧化处理直接耐晒翠蓝染液（染料浓度 100mg/L，

TiO2 用量 1000mg/L），当光照时间大于 200min

时，色度去除率达到 93%， TOC去除率达到 50%。罗洁、陈建山对色度 375、 pH值 5.35、 CODcr 595.16

mg/L的模拟墨绿色印染废水采用光催化处理后脱色率达90%， CODcr 脱除率达 80%左右。