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系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm尺寸),或者多尺寸批量处理基片(4x3”;3x4”;7x2”)。

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产品推荐
品牌:TRION型号:Minilock-Orion III产品别名:等离子增强型化沉积系统
适用行业:微电子,半导体,研究机构
Minilock-Orion III 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统

美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统

Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商,Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称,且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备,到简单的实验室研发用系统,尽在Trion。 

小批量生产用设备:

积 (PECVD)

Minilock-Orion III是一套进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸),或者多尺寸批量处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。可沉积的薄膜包括:氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。可以使用的反应气体包括:***硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、***基硅烷和甲烷。


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蓝星宇科技专业研发设计组装:紫外臭氧清洗机(UV清洗机),准分子清洗机,等离子清洗机等仪器设备。引进日本,德国,韩国***技术,设备已获得众多院校,研究所,高科技企业等客户一致认可。 同时我们专注进口科学仪器设备及材料,主要代理有:德国Nanoscribe 双光子微纳 3D 打印机(双光子飞秒激光直写仪),德国 Heidelberg 海德堡光刻机,美国 OAI 光刻机,德国 Raith 电子束光刻机,英国 Durtham 无掩膜光刻机,美国 Trion 刻蚀机.沉积机,德国 Sentech 刻蚀机.沉积机,德国 Optosol 吸收率发射率检测仪,日本 SEN UV清洗机.UV清洗灯,美国Jelight UV清洗机,美国 Nano-master 晶圆清洗机,美国 Arradiance 原子层沉积机,德国 WL 微波离子沉积机,德国 Iplas 微波离子沉积机,美国量子科学 Quantum 综合物性测量系统,德国 Diener 等离子清洗机等***技术产品;并可依据客户需求,研发定制相关仪器及材料。我们以***竞争力的价格为客户提供优质的产品与服务,为中国半导体/电子/光电/生物/***/高科技企业/高校学院/研究所/检测分析等高端客户提供设备仪器及材料。

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企业类型 有限责任公司 注册资本 100.00万人民币
公司注册地址 深圳市宝安区沙井街道共和第四工业区A6栋761-772 统一社会信用代码 91440300789207446B
登记机关 深圳市市场监督管理局 法定代表人 徐翠兰
公司成立日期 2006-05-17 营业期限 无限
经营范围 专业研发设计组装:紫外臭氧清洗机(UV清洗机),准分子清洗机,等离子清洗机等仪器设备。同时我们专注进口光刻机,刻蚀机,太阳能检测仪等仪器设备。
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  • 地       址 广东 深圳 宝安区 宝安区沙井共和第四工业区新和大道昊海弘工业园A6栋7楼
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