***，反渗透纯净水设备在电子行业的应用

　　电子元器件的需要大量高品质的纯水、超纯水，电子级超纯水是目前世界上纯净品质要求高的水。电子工业用的超纯水，例如广泛用于计算机硬盘，集成电路芯片，半导体，显像管，液晶显示器，线路板等用的纯水，对水的纯度要求较高，对出水电阻率的要求达到上(MΩ.cm)级。

　　随着电子工业的发展对高纯水提出了越来越高的要求。例如，制作16K位DRAM允许水中TOC(总有机碳)为500ppb、金属离子为1ppb、≥0.2μm的颗粒为100个/毫升。而制作16M位DRAM时，则要求TOC<5ppb、金属离子<0.2ppb、水中≥0.1μm颗粒数为0.6个/升。

　　可以说在电子级超纯水制备系统中汇集了当前水处理技术***的工艺和设备，如超滤、微滤、反渗透、膜脱气、电去离子(EDI)等，其中反渗透装置是整个纯水、超纯水制备系统工程中关键的设备。它能有效地去除原水中97%以上的溶解性无机物质、***以上的相对分子质量大于300的有机物、***以上的包括细菌在内的各种微粒和95%以上的二氯化硅。

　　反渗透工艺在纯水、超纯水制备系统工程中的应用，不但能提高了产水品质，降低成本，而且防止环境污染，有力地推进了电子工业的进步，同时也促进了纯水、超纯水技术的发展。

　　在我国RO应用于电子工业水处理的报道，早可追溯到1981年，RO技术就己成功应用于大规模集成电路超纯水制备。此后，不断出现RO制取超纯水工艺流程研究和更大规模超纯水制备的报道。2004年4月，国家海洋局杭州水处理技术开发中心为乐金飞利浦曙光电子有限公司设计和建成的13Om3/hRO彩色显象管废水回收项目是RO纯水制备技术在电子工业领域应用的拓展。该项目是迄今我国***个较大规模进行彩色显象管企业废水回用项目。

　　混凝剂主要用于除去水中微小粒径的悬浮物胶体。因为这些微小的颗粒在水中难以沉淀，而且难以去除。它是通过在原水中投加混凝剂，使之与水中悬浮物及胶体生成较大絮片，然后通过多介质过滤器过滤去除。当原水中铁的含量和悬浮物的含量较小时，预处理可以不采用此装置。当水中悬浮物及胶体物质的含量比较高时，一般需要使用混凝剂添加装置。

　　***，单级反渗透纯净水设备在水处理中的应用与注意事项

　　反渗透工艺在纯水、超纯水制备系统工程中的应用，不但能提高了产水品质，降低成本，而且防止环境污染，有力地推进了电子工业的进步，同时也促进了纯水、超纯水技术的发展。

　　第三，反渗透纯净水设备使用前应注意的问题

　　反渗透纯净水设备要求用自来水为水源，用户多将其与自来水相接就使用，在安装时没考虑预留清洗口。由于设备的自动化程度高，用户往往认为可以象其它家用设备一样，用时只要开机关机就行，缺乏专人管理，使用过程中多无运行记录或记录不全。运行时多为间歇式，亦无适当的保养措施，直到设备的产水量很小或者TDS很高时才发现问题，但为时已晚，此时采取措施，通常设备性能只能恢复60%～70%的水平，已造成了***损失。发现问题时多在的高峰期，往往造成停产和不必要的经济损失。

　　同时，我们在使用之前还要注意以下因素：

　　首先，自备一套余氯比色测定计。目前所使用的反渗透纯净水设备的膜多为低压的聚酰胺膜，该膜在使用中不耐氯，尤其在重金属离子的作用下，易氧化造成***性的损坏。自来水多含重金属离子，在活性炭失效后，极易损坏膜。自来水余氯和有机物的含量是变化的，仅仅靠计算和估计是不够的，活性炭的失效要以测试为准，这样既可避免过早更换的浪费和过迟更换引起的膜损坏。该比色计的价格便宜，操作也方便。可在计算的更换期***d开始每天测定。

　　当地自来水的水质报告是***的，虽然国家有一个自来水标准，但各地的自来水是不同的。可以从自来水公司获得近期的水质报告，在购买反渗透纯净水设备时提供给设备厂商，由厂商根据水质报告中的余氯计算确定活性炭的大致更换周期，根据水质报告中的钙、镁等离子的浓度计算确定回收率的范围、可能的污染及清洗的方法。