| 产品特性：韧性适中 | 是否进口：否 | 产地：河南 |
| 品牌：海旭磨料 HAIXU ABRASIVES | 型号：1000 | 种类：FO |
| 规格：1000 | 材质：氧化铝 硅酸锆 | 粒度：1000目 |
| 适用范围：硅片晶圆半导体研磨 |
FO1000抛光粉光学微粉 中值D50:9.4±0.8微米 平替日本FUJIMI FO1000
FO1000抛光粉光学微粉 中值D50:9.4±0.8微米 平替日本FUJIMI FO1000化学成分/物理特性
产品 类型 | 颗粒 尺寸 | 比重 (g/cm3) | 化学成分（%） | ||||
| Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 | |||
FO | #240-#400 | ≥3.90 | ≥45.0 | ≤20.0 | ≤0.5 | ≤2.0 | ≤38.0 |
| #500-#1200 | ≥3.90 | ≥45.0 | ≤20.0 | ≤0.5 | ≤2.0 | ≤33.0 | |
| #1500-#4000 | ≥3.90 | ≥40.5 | ≤20.0 | ≤0.7 | ≤2.0 | ≤33.0 | |
FO1000抛光粉光学微粉 中值D50:9.4±0.8微米 平替日本FUJIMI FO1000实测化学成分
FO1000抛光粉光学微粉 中值D50:9.4±0.8微米 平替日本FUJIMI FO1000粒度分布标准
粒度 | D0 | D3 | D50 | D94 |
#240 | ≤98.0 | ≤74.0 | 40.0±3.0 | ≥26.0 |
#280 | ≤86.0 | ≤66.0 | 34.0±2.5 | ≥21.0 |
#320 | ≤75.0 | ≤58.0 | 28.0±2.3 | ≥17.0 |
#400 | ≤63.0 | ≤50.0 | 23.0±2.1 | ≥14.0 |
#500 | ≤53.0 | ≤43.0 | 19.0±1.6 | ≥12.0 |
#600 | ≤45.0 | ≤37.0 | 16.0±1.3 | ≥10.0 |
#700 | ≤38.0 | ≤31.0 | 13.5±1.1 | ≥8.0 |
#800 | ≤32.0 | ≤27.0 | 11.3±0.9 | ≥6.5 |
#1000 | ≤27.0 | ≤23.0 | 9.4±0.8 | ≥5.0 |
#1200 | ≤23.0 | ≤20.0 | 7.1±0.7 | ≥4.0 |
#1500 | ≤19.0 | ≤17.0 | 5.5±0.5 | ≥3.0 |
#2000 | ≤15.0 | ≤14.0 | 4.5±0.4 | ≥2.0 |
#3000 | ≤12.0 | ≤11.0 | 3.6±0.4 | ≥1.5 |
#4000 | ≤10.0 | ≤8.0 | 2.7±0.4 | ≥1.3 |
FO抛光粉光学微粉主要用途
--半导体晶片晶圆的研磨抛光
--各类光学玻璃的表面精加工
--光学晶体的透镜，棱镜，面镜，滤镜等研磨抛光
--压电材料的表面精加工
FO抛光粉光学微粉海旭磨料工厂常规包装
10KGS 纸袋+托盘
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￥4300.00 -
￥1.58万
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￥3800.00
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￥4300.00
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￥1.15万
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￥1.18万
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￥2.58万
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￥2.48万
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￥4200.00
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￥4300.00
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￥4300.00
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￥4200.00
