陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

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晶迈中科厂家直销三氟化铈靶材CeF3靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

纯度 99.***

产品介绍

    三氟化铈（CeF3）沸点：2300℃，熔点：1640℃，标准状况下，三氟化铈不溶于水。

产品参数

中文名 三氟化铈         分子式 CeF3

分子式 197.1112         沸点2300℃

熔点  1640℃            外文名 Lanthanum(III) fluoride

适用仪器 各类型号磁控溅射设备

服务项目  靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位***，质量***，售后无忧

加工流程  熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

质量控制  严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量***材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

公司介绍

      北京晶迈中科材料技术有限公司坐落于北京通州区创建于2015年,是国内有色金属行业综合性研究开发公司。 现有员工100余人。我公司光学镀膜材料中心以***的技术，多年来一直专业从事光学镀膜材料及溅射靶材的研发与生产。靶材包括各种氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、复合物、金属及合金等，也可根据您的要求量身定做。通过严格控制生产、并持续改进、稳步发展，致力为客户提供***的产品。

     公司现有靶材热压炉；真空蒸馏装置，电解槽，单晶炉，区熔装置，CVD（化学气象沉积）装置，PVD（物***象沉积）装置，移动式加热装置等多种高纯金属和化合物生产研发设备；提纯工艺包括：真空蒸馏；精馏；区域熔炼；电解；化学气象沉积；物***象沉积；热扩散；单晶提拉法等。纯度从99.9%-99.999***,公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品，产品涉及工具/装饰镀膜、玻璃镀膜、光学镀膜、平面显示/触摸屏镀膜、薄膜太阳能镀膜等多个领域广泛应用到国内外众多知名太阳能、航空航天、生物医疗、***微电子、信息储存、汽车、船舶、装饰、工业镀膜、新能源企业当中。

      自有设备：真空热压炉，真空中频感应熔炼炉，冷坩埚悬浮熔炼炉，非自耗真空电弧炉，真空高温加热炉，真空烧结炉，真空蒸馏炉，定向凝固，区域熔炼炉，多温区加热炉，单晶炉，高温烧结炉，单温区，双温区、多温区液相、气相合成炉、氧化炉、加工设备。

     北京晶迈中科材料技术有限公司几年来已先后与国内几十家知名高校、中科院等研究院所建立了长期友好的合作关系，并与这些科研单位有密切的学术交流和技术合作项目，并远销欧洲、美国、日本、韩国等，在镀膜行业拥有良好的声誉。