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豪纳特FS2000植物冠层图像分析仪植物冠层图像分析仪用于各种高度植物冠层的研究,利用鱼眼镜头和CCD图像传感器获取植物冠层图像,通过专用分析软件,获得植物冠层的相关指标和参数。利用鱼眼镜头成像测量植物冠层数据,只操作一次即可,简化了传统测量方法

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是否进口:否产地:中国品牌:豪纳特HONART
型号:豪纳特FS2000尺寸:分辨率:768×494pix加工定制:否
类型:植物冠层图像分析仪适用范围:用于各种高度植物冠层的研究规格:台
豪纳特FS2000植物冠层图像分析仪


                                                            豪纳特FS2000植物冠层图像分析仪

                                       

       植物冠层图像分析仪用于各种高度植物冠层的研究,利用鱼眼镜头和CCD图像传感器获取植物冠层图像,通过专用分析软件,获得植物冠层的相关指标和参数。利用鱼眼镜头成像测量植物冠层数据,只操作一次即可,简化了传统测量方法要一天***多次测量的繁复工作,而且利用图像法测量冠层可以主动避开不符合计算该冠层结构参数的冠层空隙部分,也可以躲开不符合测量计算的障碍物。


测量参数:

叶面积指数

叶片平均倾角

散射辐/射透过率

不同太阳高度角下的直射辐/射透过率

不同太阳高度角下的消光系数

叶面积密度的方位分布


用途与适用范围

可测算植物冠层的太阳直射光透过率、天空散射光透过率、冠层的消光系数,叶面积指数和叶片平均倾角等,可用于农作物、果树、森林内冠层受光状况的测量和分析可用于不同植物群体结构的比较;可对农田作物群体生长过程进行动态监测,适用于生态学野外植物群体动态监测的研究与教学;也适用于农业、园艺、林业领域有关栽培、育种、植物群体对比与发展的研究与教学。


原理与方法

植物冠层图像分析仪采用了冠层孔隙率与冠层结构相关的原理。它是根据光线穿过介质减弱的比尔定律,在对植物冠层定义了一系列假设前提的条件下,采用半理论半经验的公式,通过冠层孔隙率的测定,计算出冠层结构参数。这是目前世界上各种冠层仪一致采用的原理。

在上述原理下,植物冠层图像分析仪采用的是对冠层下天穹半球图像分析测量冠层孔隙率的方法,该方法是各类方法中ZUI***和ZUI省力、省时、快捷方便的方法。


结构特点:

专门为植物冠层结构测量设计的小型鱼眼摄像镜头安装在万向平衡接头上,可自动保持镜头处于水平状态镜头安装在测杆一端,可以方便地水平向前或垂直向上伸入到茂密的冠层中,测杆一端的通迅线可联接在计算机上,方便取图操作,由于小巧和带有测杆,可伸入冠层不同高度处,快速地进行分层测量,测出群体内光透过率和叶面积指数垂直分布图,测杆上附带有线性PAR探头,同时可测量冠层内外的光量子通量密度(μmol/㎡?S)值,该值可以做为冠层内能量分析的参考值.


功能特点:

非破坏性地测定冠层结构

可以测量冠层内外的光合有效辐/射(PAR)

手持式万向接头自动水平调整探头,无/需三角架随身携带的笔记本计算机可以帮助你正确选点取样,即时决定图像的取舍.

由外接锂电池组提供电源便于观测和长时间测量,尤其适合完成野外繁重的观测任务图像分析软件可以任意定义图像分析区域(天顶角可分10区,方位角可10区)。对不同方向的冠层进行区域性分析时,可以任意屏蔽地物景像和不合理的冠层部分(如缺株、边行问题等)。对不同天顶角起始角和终止角的选择,可以避开不符合计算该冠层结构参数的冠层孔隙条件,通过手动调节阈值,可以更精/准的测量出叶面积指数等参数.


镜头角度:150°(或用户自选180°镜头。除用户有特殊需要,180°鱼眼镜头经常不适合孔隙测量原理与方法所假设的前提条件,用于冠层结构分是不适宜和不经济的)


分辨率:768×494pix

测量范围:天顶角由0°~75°PAR

感应范围:感应光谱400nm~700nm

测量范围0~2000μmol·m-2·s-1

分析软件:植物冠层分析系统

显示和内存:决定于笔记本电脑的选择。

电源:锂电池组

传输接口:USB

工作温度:0~55°C



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北京豪纳特科技有限公司依托现代科学技术及高校院所的支持合作,不断提高产品质量,形成研发销售贸易于一体的新型高科技公司,并引进国外***技术和产品,服务国内客户,已经和国际多家知名企业建立合作关系。并以优良的品质,***服务赢得了用户信赖。主营行业,水质分析类,石油化工分析类,粉体测试类,环境气体分析类,气象及教学仪器类,辐射防护类,实验室设备类,电力行业类。 公司坚持以用户至上,质量,信誉,信誉永恒和服务***为宗旨。产品出厂一年内免费维修,终身保护。严格的技术要求,稳定的产品质量是我厂发展生存的希望,我们希望广大科研工程技术人员对豪纳特产品提出更合理、更***建议,也希望我们共同研制开发,共创未来。

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