Trymax 半导体 等离子体光刻胶去除 干法去胶 等离子去胶机 NEO3400系列

Trymax自2003年开始运营，总部设在荷兰Nijmegen，全世界有数十个销售中心以及服务中心。 Trymax的核心业务是通过创新使用等离子体来去除光刻胶以及表面清洁活化，同时Plasma系统可以用于集成电路和其他半导体器件的蚀刻。Trymax设备在半导体去胶、清洗、活化工艺中起到了关键性作用，已经得到世界各大半导体制造商的青睐。

Trymax等离子系统在中国大陆已经和多家客户建立合作关系，如TI、昆山华天、合肥汇成、株洲中车、三安光电、莆田福联、AMKOR、国网、中电13所、中科院微电子所等。

Trymax 等离子去胶机 干法去胶NEO3400 系列

?特点

- 可以做到300mm晶圆/基板尺寸
- 3 到4个上下料盒
- 4轴机械手搭配x移动
- 2或4个制程室
- 4 个不同的进程室:
   ?单微波源配置(2.45 GHz)
   ?单射频源配置 (13.56MHz)
   ?双源配置(RF/MW)
   ? DCP双源(RF/RF)
- 良好的一致性和可重复性
- 机械速率 > 300wph
- 占地面积小
- 使用成本低
-全数字控制
-工业计算机Windows

? 应用

-湿法或干法刻蚀前后的去残胶
- 浮渣去除
- 化学残余物去除
-高剂量离子注入光刻胶的去除
- 氮化硅刻蚀
-湿法或干法刻蚀前后的去残胶