VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作，用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该系统配置三个靶枪，一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头，用于各类靶材的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究薄膜电池、固态电解质及OLED等，与普通磁控溅射相比可以做Li靶材及锂基材料靶材的镀膜实验，是新能源行业实验室镀膜实验的理想设备。

1、配置三个靶枪，一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头，用于各类靶材的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任何调换）。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
4、整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。
5、可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪（选配）。
6、可在手套箱内进行实验操作，更换各类易氧化的靶材用于镀膜实验。

产品名称
VGB-600-3HD薄膜电池制备系统
产品型号
VGB-600-3HD
主要参数
三靶磁控溅射部分
1、电源电压：220V 50Hz
2、总功率：2.5KW
3、极限真空度：< E-6mbar（配合本公司机械泵设备使用可达到 E-3mbar）
4、工作温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）
5、靶枪数量：3个
6、靶枪冷却方式：水冷
7、靶材尺寸：2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
8、溅射电源功率：300W（射频）/500W（直流）
9、载样台：140mm
10、载样台转速：1rpm-20rpm内可调
11、保护气体：Ar、N2等惰性气体
12、进气气路：质量流量计控制2路进气，1个流量为100 SCCM，1个流量为200 SCCM
手套箱部分
1、电源：单相AC110V-220V 50Hz/60Hz
2、壳体材料：304不锈钢
3、手套箱腔体：1220mm×760mm×900mm
4、前级室：设有2个前级室，大前级室360mm×600mm，小前级室150mm×300mm
5、腔体环境：水含量<1ppm（20℃，1atm），氧含量<1ppm（20℃，1atm）

6、工作气体：N2、Ar、He等惰性气体
7、控制气体：压缩空气或惰性气体
8、还原气体：工作气体和H2的混合气（如果净化系统只有除水功能，还原气体与工作气体相同）
9、气体净化系统：
德国BASF除氧材料、美国UOP高效吸水材料，净化系统再生过程自动控制，自动除水、 除氧功能，
可长期、持续维持气体纯度在水<1ppm、氧<1ppm
10、压力控制系统：腔体气压可通过PLC触摸屏自动控制，控制精度为±1Pa，也可通过脚踏开关进行手动控制
11、过滤系统：进、出气端都装有过滤器，过滤精度为0.3μm
12、控制系统：SIEMENS彩色触摸屏（6寸），PLC控制系统，中英文双语可切换；
水探头采用美国GE品牌，0-1000ppm触摸屏显示，精度0.1ppm；
氧变送器采用美国AII品牌，0-1000ppm触摸屏显示，精度0.1ppm；
压力传感仪采用美国setra品牌，-2500-2500Pa触摸屏显示，精度±1Pa；
13、真空泵：采用英国EDWARDS品牌，抽速8.4m3/h-12m3/h
14、手套：美国NORTH品牌丁基合成橡胶
15、照明系统：飞利浦品牌荧光灯管
产品规格
三靶磁控溅射部分：950mm×460mm×810mm
手套箱部分：2300mm×1500mm×1900mm