红外金像炉RHL-E系列ADVANCE理工红外灯加热器

红外金像炉RHL-E系列，RHL-VHT系列，RHL-P系列，红外金像炉Ps、Pss系列，可编程温度控制器TPC- 5000系列，红外灯退火设备RTA系列，红外灯加热器RTP-6，台灯加热装置MILA-5050，台灯加热装置MILA-5000系列

产品介绍

红外金像炉RHL-E/VHT/P系列

我们用红外灯加热来满足客户的需求。
应用于各种尺寸加热物体的研发、生产设备等各个领域。

用法

太阳能电池、CIGS、CZTS 退火

SiC功率器件的退火

金属材料的淬火和退火

陶瓷材料的热冲击试验

钎焊热处理

催化剂加热炉（气体分析）

特征

E型：具有椭圆形反射面，通过将光线聚光至焦点（线聚光），可实现高温高速加热。

VHT型：椭圆反射面的超高温型。可加热至 1800°C

P型：具有抛物面反射面，平行光可大面积均匀加热。

红外金像炉Ps、Pss系列

它可用于广泛的领域，包括碳纳米管生成设备和生产设备。
平板辐射红外加热炉可用于φ2in至φ300mm晶圆退火系统及生产烧成炉。

用法

大型玻璃基板（太阳能电池、FPD等）的加热

半导体晶圆的高温高速加热

薄钢板热处理

特征

Ps型的反射面宽度为40mm，Pss型的反射面宽度为20mm，可实现高密度的灯配置。

Ps型和Pss型都可以通过增加反射面的数量来加热大面积。

可编程温度控制器TPC-5000系列

可以准确处理高速加热的温度控制器。
这是一款可编程温度控制器，不仅可以用于红外线金像炉，在高速加热时需要快速响应，还可以用于低速加热炉。
我们以紧凑的包装提供高功能和高性能，并以低价提供范围广泛的配件。

用法

需要高速加热的加热炉，如红外线金像炉等。

特征

高速采样 (50 ms) 可轻松控制 100°C/s 或更高的加热速率。

兼容的热电偶包括 JIS、K、S、B、R、E、J、T 和 W，以及铂电阻、电流输入和电压输入控制。

可设定256步程序

8个输入口，5个输出口，接口继电器），可支持阀门开闭等多种功能（***扩展型）

配备30A、60A、120A控制电路，支持多种加热炉

高度 157mm x 宽度 250mm x 长度 380mm 的紧凑尺寸

程序输入允许使用随附的软件（通过 USB 端口连接）从您的 PC 进行温度程序设置和外部信号输入

红外灯退火设备RTA系列

10秒到目标温度！
我们的红外灯加热具有高能量密度、近红外线、高热响应性、温度可控性和真空清洁加热。可处理 2 英寸（50 毫米）至 12 英寸（300 毫米）晶圆的产品阵容。我们将根据客户要求的热处理配方（加热/冷却）和气氛（真空和气体）以及 RTA 系列来满足客户的需求。

用法

离子注入后活化退火

氧化膜形成退火

欧姆电极的合金化

PZT、SBT等铁电薄膜的晶化退火

硅片的donor killer处理

硅化物形成、硅化物形成

发光器件和半导体激光器基板的热处理

超浅结形成

铁电电容器的沉积

栅极氧化膜形成

特征

加热速度可达 200°C/s

兼容 C to C 机器人运输系统

可连接到半导体制造设备

可浸泡多张纸的灯的区域输出控制0

红外灯加热器RTP-6

可以低成本进行80℃/s的高速退火。
本设备是一种红外线灯设备，以抛物面反射红外线灯对4-6英寸尺寸的晶圆进行均匀加热。可以进行高速热处理，可以很容易地用作热处理工艺研究和开发的装置。个别半导体工艺的硅化物形成和氧化膜形成，以及化合物半导体的工艺退火是可能的。

特征

可进行高速热处理

采用水冷式金属室型冷壁结构，可实现高速冷却。

真空置换后的气体流动也是可能的

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

可以连接石英防粘板以防止腔室内部受到污染（可选）

9 区输出控制可实现出色的温度分布和再现性

台灯加热装置MILA-5050

本装置为台灯加热装置，可对50平方毫米的试件进行热处理。
自从 MILA-5000 系列桌面灯加热器作为 20 平方毫米样品的加热设备发布以来，许多客户一直在定期使用它。因此，我们可以在保持 50 平方毫米的热处理的同时进行热处理集加热炉、腔体、温控器于一体的紧凑型机身。

用法

光CVD基板加热等电子材料的高速加热

玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理。

热循环试验

金属材料退火

涂膜耐热性评价

有机材料和树脂的加热和干燥

特征

热处理可以达到 50 平方毫米的样品尺寸。

温度1200℃

一种桌面加热装置，集红外高速加热和冷却金像炉、加热室、温控仪于一体。

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

台灯加热装置MILA-5000系列

MILA-5000系列可以进行高速加热/冷却和清洁加热，这是红外金像炉的特点。这是一种红外灯加热设备。可以通过USB连接在个人电脑上进行加热操作，并且可以轻松管理数据。

用法

铁电薄膜的晶体退火

离子注入后的扩散退火、氧化膜形成退火

硅、化合物晶圆烧结、合金化处理

玻璃基板均热退火仪

热循环、热冲击、热疲劳试验

程序升温脱热试验用加热炉

催化效果测试

特征

可以从真空、气体、气流和大气中选择任何气氛。

***的温度控制

台式和紧凑型设计

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

风冷台灯取暖器MILA-700AR理工ADVANCE

风冷台灯取暖器MILA-700AR，简易红外灯加热器SSA系列，可变气氛灯加热装置QHC系列，VHC系列，点聚焦红外金像炉MIRO系列，红外灯消光管CAS-MR59AQ，超高温灯管退火设备HT-RTA59HD，生产用热处理炉(线设备)

产品介绍

风冷台灯取暖器MILA-700AR

不使用冷却水的台灯加热设备。
冷却使用空气冷却风扇，因此如果您有壁装电源插座（AC100V），您可以立即加热。

用法

Si晶圆、化合物晶圆的高速加热

光CVD基板加热等电子材料的高速加热

玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理。

热循环试验

金属材料退火

涂膜耐热性评价

有机材料和树脂的加热和干燥

特征

无需冷却水，采用带风冷风扇的风冷系统。

可与墙上插座一起使用 (AC100V 15A)

台式加热炉、加热室、温控器一体化

红外金像炉清洁快热快冷

在计算机上轻松输入温度配方

加热过程中的温度数据可在电脑屏幕上显示

标配数字流量计，可选择N2气、Ar气、干燥空气。

简易红外灯加热器SSA系列

红外金像炉和石英腔室的简单设备。
一种低成本加热系统，由红外金像炉和包含样品架的石英室组成。

用法

化合物半导体的合金化

Si、化合物半导体RTA

陶瓷基板层压材料烧成炉

玻璃和陶瓷基板退火炉

特征

可选择气流式或真空式石英腔体（标准为气流式）

可选地，可以组合气流类型和真空类型

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

此外，还可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

可变气氛灯加热装置 QHC系列/VHC系列

可以进行太阳能电池/化合物半导体的工艺开发以及各种应用和设置。
QHC/VHC系列是结合了红外线金像炉和温度控制器的高速加热/冷却系统，并紧凑地配备了石英热处理室。
可根据客户需求定制。

用法

太阳能电池基板的热处理

氢气氛下热处理

用于各种材料基础研究的大气退火和热处理模拟器

气淬热处理

热循环/热冲击测试

半导体材料的烧成、工艺退火条件的检查

特征

从高速加热到低速加热的多种条件设置

多步循环加热

气冷机构高速气淬

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

此外，还可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

点聚焦红外金像炉MIRO系列

聚光聚光超高温热处理。
它是一种紧凑型点聚光红外金像炉，具有球形反射面，通过与单室或双室组合实现极高的反射效率。通过聚焦可以将温度升高到 1800°C。

用法

超高温真空热处理

晶体生长测试（区熔）

小样品超高温加热试验

局部加热热冲击试验

热循环试验

用于热分析

用于产生的气体热解器

微重力下的实验反应堆

特征

超小型、低成本的超高温加热炉

通过与单室或双室组合，可以在真空或惰性气体等气氛下进行加热。

可以在加热过程中观察样品

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

红外灯消光管CAS-MR59AQ

材料加热后，可将样品滴下并在水淬惰性气体气氛中加热至 1800 °C

用法

钢板材料新材料研发

金属凝固过程中的成分评估

陶瓷的热冲击试验

特征

可在 10 秒内升温至 1800°C

采用红外线灯加热，产生的气体和粉尘少，清洁加热

材料加热后允许水淬

超高温灯管退火设备HT-RTA59HD

在10秒内将一小块样品加热到1800°C。一种
桌面式超高温灯管退火装置，可以将SiC等昂贵样品和小块其他高熔点材料的温度提高到超高温度1800°C 的温度范围，通过点加热实现高反射效率。

用法

SiC（功率器件）氧化膜形成-活化

高熔点材料的热处理

烧结、烧成炉

局部加热冲击试验炉

长晶试验炉（区熔）

特征

15 平方毫米的样品可以在 10 秒内加热到 1800°C。

通过点加热实现高反射效率

桌面小巧机身

采用红外线灯加热，产生的气体和粉尘少，清洁加热

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

此外，还可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

生产用热处理炉（线设备）

根据热处理的目的形成加热系统。
在该设备中，加热炉和加热系统根据材料的形状和过程中热处理的目的而组成。
我们通过限度地利用高速加热、高速冷却和清洁加热，提供适用于***、节能和高功能的加热炉。

用法

建材用铝挤压模具高速预热

金属丝的连续热处理

金属带材轧制前后的连续热处理

异种金属材料的扩散接合加热

涂膜干燥/烘烤加热

玻璃基板材料的高真空加热

氯乙烯管软化成型

漆包线干燥退火

碳纳米管生产炉