苏州华维纳纳米科技有限公司：
成立于2011年，公司设有博士后流动站。公司曾先后获得国家科技部（国家重大大科学仪器设备开发专项)和姑苏、江苏省双创人才、以及苏州x-nano大科学装置等项目支持2015年被认定为高新技术企业。
新型激光直写采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，***扩展了激光直写设备的应用范围。

技术性能：
超衍射分辨纳米加工、图片数据直接调制激光脉冲、刻写聚焦光斑小至275nm、刻写网格间距小至75nm、最小刻写尺寸可达50nm

适用性：
◆适用掩模加工、结构与器件制备；可选不同尺寸的位移平台；
◆可根据需求灵活改变刻写参数；可配备不同数值孔径与倍率的物镜；
◆适用于无机材料与有机光刻胶

原理：激光与材料的非线性相互作用，突破衍射极限的限制在LDW系统中，聚焦激光的非线性能量分布遵循高斯分布。这种分布导致了激光***的中心区域和外圈之间的能量差异很大。当聚焦激光束照射一个具有反应阈值的受体薄膜时，通过激光参数的选择可***只有中心区域内的激光能量能超过材料阈值并产生有效作用，而激光焦斑外围的能量小于材料阈值，无法对材料产生有效作用。这使得激光与材料实际作用的面积大大减小，甚至可以达到衍射极限的几十分之一，从而实现超衍射加工。

主要模块：
强大的控制软件:
计算机内置的LDW-SC控制软件，实现刻写前样品分析，设计图形输入与刻写，完成刻写后的在线分析。

超精密的工件台运动控制:
采用高阶FPGA开发板，控制压电陶瓷平台在全行程进行扫描，从而获得20000*20000像素点的超精细刻写图像。

高精度工件台:
◆分辨率1nm，定位精度小于10nm
◆刻写范围可选：1500*1500、1000*1000、500*500、200*200、100*100μm
◆大行程的手动XY移动台（范围25*25mm，精度0.01mm），实现大尺度样品大范围移动定位。

刻写物镜:
◆大数值孔径：工作距离近，焦深浅，视场小，适用精细刻写
◆小数值孔径：工作距离远，焦深大，视场大，适用快速大面积刻写

高精准激光功率控制:
◆功率起伏度小于1%，可实现激光功率的稳定输出及对激光脉冲的快速调控响应。

纳米激光直写系统制作实例:

浮雕型微纳圆光栅和方光栅

Ag 纳米薄膜的 SERS 芯片

纳米带阵列

灰度掩模制备菲涅尔玻璃透镜

金属表面微纳结构

有机材料微纳米隧道、高精度微电路电极

备注说明：仪器具体价格需要根据解决方案咨询销售工程师之后确定，网上标价不作为实际成交价格。

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Tel:0571-88077926 / 88076956，E-mail：info@spl-tech.cn

关于我们：

杭州谱镭光电技术有限公司(Hangzhou SPL Photonics Co Ltd)创立于2008年，经过近16年公司同仁共同的努力和发展，公司在光谱及成像、激光器系统及配件，生物光学和量子光学等领域和应用有非常多的经验和解决方案，同时也组建了一支专业的销售和服务团队。

目前业务范围涵盖国内各大高校、科研院所及企事业单位，为广大客户提供专业的解决方案和服务，深受广大客户的好评和信赖。

作为专业的光电类科研仪器服务商，公司秉承专业服务客户为上的目标，一直严格要求，以尽善尽美为工作方向，和客户一起前行。目前公司在光谱仪器和激光检测系统方面有自己的研发能力，开发出了显微拉曼测量系统，共聚焦激光扫描显微系统，全角度光谱测量系统，便携式红宝石标压系统，便携式土壤重金属分析仪（LIBS），光谱测量支架等。了解更多产品信息请访问公司官网：

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