AP-300等离子系统

　　　　　　　　　　　　　-------紧凑型、桌面式配置的等离子处理设备

　　　　　　　　　　　特征优势：

　　触摸屏的PLC控制，提供了形象的图形界面和实时过程显示；

　　灵活的支架结构允许处理多种部分，在水平或竖直模式下；

　　13.56MHz的电源具有自动阻抗匹配功能，因此具有出色的过程重复性；

　　的控制软件系统为统计过程控制产生过程和产品的数据；

　　AP-300是特别设计的均匀清洗和处理的等离子设备，具有易操作性强、可靠性高、低成本的优点。AP-300是完全独立的系统，需要很小的空间。等离子腔体、控制设备、13.56MHz的等离子发生器和自动匹配网络都安装在底盘上，一个连锁的门和面板提供了维护通道。等离子腔体由耐用的高品质铝做成的，并且带有铝支架。腔体里有最多达7个可移动的、可调整的电源极或接地极支架，以适应更款范围的器件、组件或工装（Magazines、Trays或Boats）。

清洗、表面活化、改善粘性

AP-300系统适合多种多样的等离子清洗、表面活化和改善粘性等应用，倍广泛应用在半导体器件制造、微电子封装和组装、医疗设备器件和生命科学器件的制造等。AP-300适合多种工艺气体，例如Ar、O2、H2、He及氟化合物气体，通过2个（标准配置）气体质量流量控制器控制气体的标准，系统还可以选配2个气体质量流量控制器来提高系统的控制性能。

半导体和微电子应用举例：

粘片前进行处理，提高芯片附着力；

键合前进行处理，提高键合强度；

塑模和封装前进行处理，减少封装分层；

Flip chip采用underfill工艺底部填充前进行处理，可以提高填充速度、减少空洞率、增加填充高度及一致性、增加填充物的附着力。