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SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备,利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下(<100?C)沉积高质量SiO2,Si3N4,和SiOxNy薄膜。可以实现沉积薄膜厚度、折射率、应力的连续调节。

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是否进口:否产地:德国加工定制:是
品牌:SENTECH型号:ICP-PECVD订货号:111
货号:111适用范围:沉积高质量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜是否跨境货源:否
SENTECH -等离子沉积系统是ICP-PECVD设备:SI 500D

SENTECH  沉积系统-SI 500 D

SENTECH仪器(德国)有限公司是国际主流的半导体设备商,研发、制造和销售***的薄膜测量仪器(反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统)。

SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备,利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下(<100?C)沉积高质量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜。可以实现沉积薄膜厚度、折射率、应力连续调节。

 


 

SI 500 D主要特点

适用于8寸以及以下晶片

低温沉积高质量电介质膜80°C~350°C

高速率沉积

低损伤

薄膜特性 (厚度、折射率、应力) 连续可调

平板三螺旋天线式PTSA等离子源 (Planar Triple Spiral Antenna)

SENTECH***等离子设备操作软件

穿墙式安装方式

 


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北京亚科晨旭科技有限公司 进入首页

亚科提供设备: 检测设备:原子力显微镜、三维光学表面轮廓仪(白光干涉仪)、台阶仪、摩擦磨损测试仪、桌面扫描电镜、场发射电镜、***衍射仪XRD、***荧光光谱仪、傅里叶红外光谱仪、椭偏仪、反射仪; 前道工艺设备:PVD、PECVD、ICPECVD、LPCVD、氧化炉、快速退火炉、高温氧化炉、PE-ALD、分子束外延MBE、离子注入设备、扩散炉、晶圆键合机、光刻机、纳米压印设备、匀胶显影设备、感应耦合等离子体刻蚀机ICP、 反应离子刻蚀机RIE、深硅刻蚀设备、气体刻蚀设备、离子束刻蚀机、湿法刻蚀、研磨抛光机、划片机、湿法清洗机; 微组装设备:粘片机(全自动和半自动)、键合机(全自动和半自动)、封焊机、推拉力测试仪、倒装焊等; LTCC设备:流延机、裁片机、冲孔机、印刷填孔机、叠片机、层压机\等静压机\温水压机、切割机、排胶机、烧结炉等。 公司主营设备: 1. 整套半导体设备 2. 整套微组装设备 3. 整套SMT设备 4. LTCC线和线缆加工设备 北京亚科晨旭科技有限公司 地址:北京市朝阳区酒仙桥路甲12号电子城科技大厦14层1408室 葛女士 市场主管 电话:010-84799262-809 传真:010-84799265

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企业类型 有限责任公司(自然人投资或控股) 注册资本 1000.00万人民币
公司注册地址 北京市朝阳区酒仙桥路14号53幢6层616室 统一社会信用代码 911101057832377671
登记机关 北京市朝阳区市场监督管理局 法定代表人 彭辉
公司成立日期 2005-11-28 营业期限 2005-11-28 至 2055-11-27
经营范围 技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(市场主体依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
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