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***的硅片低压契型补偿系统以提高良率优异的温度压力均匀性工艺菜单与其他键合系统通用手动上料和下料台,全自动工艺过程,外置冷却台单一或双腔式设计全自动键合工艺执行和键合室自动开合设计

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加工定制:否品牌:EVG型号:EVG520IS
用途:主要应用于MEMS制造、微流体芯片、化合物半导体的薄片处理、晶圆级***封装以及3D互联、TSV工艺。别名:键合机规格:2222
EVG小批量半自动晶圆键合系统EVG520IS 吸盘设计 温度压力均匀 小批量生产

EVG小批量半自动晶圆键合系统EVG520IS


EVG520IS是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统, 硅片允许尺寸为200mm。集EVG技术及客户反馈基础上设计的EVG520IS,配备了EVG公司的吸盘设计---这种吸盘可以提供对称的快速加热和冷却功能。EVG520IS的很多优势特性,如独立的上下盘加热和高压键合工艺、高度的材料和工艺灵活性等,都帮助客户很好的实施键合研究和生产。

二、应用范围

主要应用于MEMS制造、微流体芯片、化合物半导体的薄片处理、晶圆级***封装以及3D互联、TSV工艺。


三、主要特点

***的硅片低压契型补偿系统以提高良率

优异的温度压力均匀性

工艺菜单与其他键合系统通用

手动上料和下料台,全自动工艺过程,外置冷却台

单一或双腔式设计

全自动键合工艺执行和键合室自动开合设计







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北京亚科晨旭科技有限公司 进入首页

亚科提供设备: 检测设备:原子力显微镜、三维光学表面轮廓仪(白光干涉仪)、台阶仪、摩擦磨损测试仪、桌面扫描电镜、场发射电镜、***衍射仪XRD、***荧光光谱仪、傅里叶红外光谱仪、椭偏仪、反射仪; 前道工艺设备:PVD、PECVD、ICPECVD、LPCVD、氧化炉、快速退火炉、高温氧化炉、PE-ALD、分子束外延MBE、离子注入设备、扩散炉、晶圆键合机、光刻机、纳米压印设备、匀胶显影设备、感应耦合等离子体刻蚀机ICP、 反应离子刻蚀机RIE、深硅刻蚀设备、气体刻蚀设备、离子束刻蚀机、湿法刻蚀、研磨抛光机、划片机、湿法清洗机; 微组装设备:粘片机(全自动和半自动)、键合机(全自动和半自动)、封焊机、推拉力测试仪、倒装焊等; LTCC设备:流延机、裁片机、冲孔机、印刷填孔机、叠片机、层压机\等静压机\温水压机、切割机、排胶机、烧结炉等。 公司主营设备: 1. 整套半导体设备 2. 整套微组装设备 3. 整套SMT设备 4. LTCC线和线缆加工设备 北京亚科晨旭科技有限公司 地址:北京市朝阳区酒仙桥路甲12号电子城科技大厦14层1408室 葛女士 市场主管 电话:010-84799262-809 传真:010-84799265

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企业类型 有限责任公司(自然人投资或控股) 注册资本 1000.00万人民币
公司注册地址 北京市朝阳区酒仙桥路14号53幢6层616室 统一社会信用代码 911101057832377671
登记机关 北京市朝阳区市场监督管理局 法定代表人 彭辉
公司成立日期 2005-11-28 营业期限 2005-11-28 至 2055-11-27
经营范围 技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(市场主体依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
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