| 产品特性：原子层沉积 | 加工定制：是 | 品牌：PICOSUN |
| 型号：Picosun等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统 PICOPLASMA | 用途：PICOSUN-原子层沉积系统ALD | 订货号：Picosun等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统 PICOPLASMA |
| 货号：PICOSUN-原子层沉积系统ALD | 别名：PICOSUN-原子层沉积系统ALD | 规格：PICOSUN-原子层沉积系统ALD |
Picosun等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统 PICOPLASMA
Picosun公司新型PICOPLASMA?等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统是基于***的自由离子远程等离子源设计的，其性能已经得到世界范围内的诸多研究团队的肯定。多种激发源（如氧、氢和氮等）配置能够zui大化拓展ALD的工艺范围，尤其是低温沉积金属和金属氮化物薄膜。由于远程等离子源所产生的等离子体束流中离子的含量低，因此即使是zui敏感的衬底，也不会出现等离子损伤，而等离子束流中含有高浓度的活性粒子，***很快的生长速度。
PICOPLASMA?源系统既可以安装在现有的PICOSUNTM ALD反应器上，也可以将整个PEALD组装为yi个整体。它具有占地面积小、易维护和低运行成本等优点。通过预真空系统，PICOPLASMA?集成在PICOPLATFORM?集群系统中后可实现自动化操作。
PICOPLASMA? 远程等离子体系统技术参数
· 对衬底无等离子损伤
· 导电材料不会产生短路现象
· 无前驱源背扩散→ 等离子发生器无薄膜形成
· 等离子体点火期间无压力振荡→ 无颗粒形成
· 等离子体源与衬底之间无闸门阀→ 无颗粒形成
· 等离子体源材料无刻蚀→ 金属和氧化物薄膜低杂质
· 简单和快速服务并通过维护舱口改变腔室
· 无硬件修改使热ALD和等离子ALD工艺在同yi沉积腔室中进行成为可能
应用领域
部分PEALD材料的薄膜均匀性的例子，采用PICOSUN?设备沉积。晶圆尺寸150/200 mm(6/8”) | |
材料 | 非均匀性(1σ) |
AI2O3 | 0.50% |
AlN | 0.62% |
In2O3 | 0.87% |
SiO2 (low-T) | 1.10% |
SiN (low-T) | 1.58% |
TiN | 2.16% |
ZnO | 2.64% |
TiAlN | 2.87% |
亚科提供设备： 检测设备：原子力显微镜、三维光学表面轮廓仪（白光干涉仪）、台阶仪、摩擦磨损测试仪、桌面扫描电镜、场发射电镜、***衍射仪XRD、***荧光光谱仪、傅里叶红外光谱仪、椭偏仪、反射仪； 前道工艺设备：PVD、PECVD、ICPECVD、LPCVD、氧化炉、快速退火炉、高温氧化炉、PE-ALD、分子束外延MBE、离子注入设备、扩散炉、晶圆键合机、光刻机、纳米压印设备、匀胶显影设备、感应耦合等离子体刻蚀机ICP、 反应离子刻蚀机RIE、深硅刻蚀设备、气体刻蚀设备、离子束刻蚀机、湿法刻蚀、研磨抛光机、划片机、湿法清洗机； 微组装设备：粘片机（全自动和半自动）、键合机（全自动和半自动）、封焊机、推拉力测试仪、倒装焊等； LTCC设备：流延机、裁片机、冲孔机、印刷填孔机、叠片机、层压机\等静压机\温水压机、切割机、排胶机、烧结炉等。 公司主营设备： 1. 整套半导体设备 2. 整套微组装设备 3. 整套SMT设备 4. LTCC线和线缆加工设备 北京亚科晨旭科技有限公司 地址：北京市朝阳区酒仙桥路甲12号电子城科技大厦14层1408室 葛女士 市场主管 电话：010-84799262-809 传真：010-84799265
点击查看>| 企业类型 | 有限责任公司(自然人投资或控股) | 注册资本 | 1000.00万人民币 |
| 公司注册地址 | 北京市朝阳区酒仙桥路14号53幢6层616室 | 统一社会信用代码 | 911101057832377671 |
| 登记机关 | 北京市朝阳区市场监督管理局 | 法定代表人 | 彭辉 |
| 公司成立日期 | 2005-11-28 | 营业期限 | 2005-11-28 至 2055-11-27 |
| 经营范围 | 技术推广；市场调查；经济贸易咨询；展览服务；组织文化艺术交流活动（不含演出）；货物进出口、技术进出口、代理进出口；销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品（不含危险化学品）。（市场主体依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。） | ||
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