可程式HMDS蒸镀设备 HMDS真空镀膜机 实验室HMDS烘箱概述

可程式HMDS蒸镀设备，HMDS真空镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。

可程式HMDS蒸镀设备 HMDS真空镀膜机 实验室HMDS烘箱特点

?  处理更加均匀：由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

?  效***液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达8盒（4寸）的晶片。

?  更加节省药液：实践证明，用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多。

?  更加环保和安全：HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、***、刺激身体、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染。 

可程式HMDS蒸镀设备 HMDS真空镀膜机 实验室HMDS烘箱系统

?  真空系统：由真空泵、真空组件、真空测量等组成，主要作用是置换气体和抽走剩余HMDS蒸汽。

?  充氮系统：作用是在置换过程中，用氮气来逐渐稀释空气或药液蒸汽，从而最终替换空气或药液蒸汽的气氛。主要由氮气源、控制阀和喷头组成。

?  控制系统：控制模块是本系统的核心模块，它的作用是控制各个模块的动作和时序，完成整个工艺过程。主要由人机界面，CPU控制中心，控制接口和输出部件，报警等5部分组成。人机界面采用触摸屏来实现参数、状态等界面的显示和参数的设定输入。PLC采用三菱系列小型化PLC。