| 加工定制:是 | 品牌:奥地利EVG | 型号:EVG?770 分步重复纳米压印光刻系统 |
| 用途:EVG?770 分步重复纳米压印光刻系统 | 订货号:111111 | 货号:111111 |
| 别名:紫外线纳米压印光刻系统 | 规格:60*80 | 是否跨境货源:否 |
EVG?770 Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System
EVG?770 分步重复纳米压印光刻系统
分步重复纳米压印光刻技术,可进行***母版制作
技术数据
EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从50 mm x 50 mm的小模具到300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重***印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。
EVG770的主要功能包括***的对准功能,完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。
特征
高效的晶圆级光学微透镜主制造,直至SmartNIL?的纳米结构
简单实施不同种类的大师
可变抗蚀剂分配模式
分配,压印和脱模过程中的实时图像
用于压印和脱模的原位力控制
可选的光学楔形误差补偿
可选的自动盒带间处理
技术数据
晶圆直径(基板尺寸)100至300毫米
解析度≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL
曝光源:大功率LED(i线)> 100 mW /cm?
对准:顶侧显微镜,用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

有效印记区域:长达50 x 50毫米
自动分离:支持的
前处理:涂层:液滴分配(可选)
亚科提供设备: 检测设备:原子力显微镜、三维光学表面轮廓仪(白光干涉仪)、台阶仪、摩擦磨损测试仪、桌面扫描电镜、场发射电镜、***衍射仪XRD、***荧光光谱仪、傅里叶红外光谱仪、椭偏仪、反射仪; 前道工艺设备:PVD、PECVD、ICPECVD、LPCVD、氧化炉、快速退火炉、高温氧化炉、PE-ALD、分子束外延MBE、离子注入设备、扩散炉、晶圆键合机、光刻机、纳米压印设备、匀胶显影设备、感应耦合等离子体刻蚀机ICP、 反应离子刻蚀机RIE、深硅刻蚀设备、气体刻蚀设备、离子束刻蚀机、湿法刻蚀、研磨抛光机、划片机、湿法清洗机; 微组装设备:粘片机(全自动和半自动)、键合机(全自动和半自动)、封焊机、推拉力测试仪、倒装焊等; LTCC设备:流延机、裁片机、冲孔机、印刷填孔机、叠片机、层压机\\\\等静压机\\\\温水压机、切割机、排胶机、烧结炉等
点击查看>| 企业类型 | 其他有限责任公司 | 注册资本 | 500.00万人民币 |
| 公司注册地址 | 北京市朝阳区酒仙桥路14号53幢6层616室 | 统一社会信用代码 | 911101057832377671 |
| 登记机关 | 北京市工商行政管理局朝阳分局 | 法定代表人 | 徐德荣 |
| 公司成立日期 | 2005-11-28 | 营业期限 | 2005-11-28 至 2025-11-27 |
| 经营范围 | 技术推广;市场调查;经济贸易咨询;展览服务;组织文化艺术交流活动(不含演出);货物进出口、技术进出口、代理进出口;销售机械设备、五金交电及电子产品、矿产品、建材及化工产品(不含危险化学品)。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。) | ||

