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Zeta?-300可提供3D量测和成像功能,与集成式防震台和灵活的配置相结合,可以处理更大的样品。该系统采用ZDot?技术,可同时收集高分辨率3D形貌信息和样品表面真彩色图像。Zeta-300支持研发和生产环境,具有多模光学组件、易于使用的软件和低拥有成本。

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产品推荐
是否进口:是原产国/地区:美国加工定制:是
品牌:KLA型号:Zeta-300产品用途:台阶高度,纹理和形状,纹理表征
Zeta-300 光学轮廓仪 多模式三维光学轮廓仪 3D表面形貌测量系统

产品描述

Zeta-300 光学轮廓仪是一款非接触式3D表面形貌测量系统。Zeta-300 以 Zeta-20 3D 轮廓仪的功能为基础,具有额外的防震选项和灵活的配置,可处理更大的样品。该 3D 光学量测系统由已获得***的 ZDot 技术及多模式光学组件提供支持,可支持各种样品测量:透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙表面,以及从纳米到厘米范围的台阶高度。

Zeta-300 光学轮廓仪将六种不同的光学量测技术集成到一个可灵活配置且易于使用的系统中。ZDot测量模式同时收集高分辨率的3D扫描信息和样品表面真彩色图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量法、诺马斯基光干涉对比显微法和剪切干涉测量法,膜厚测量包含使用ZDot模式测量和光谱反射的测量方法。Zeta-300 也是一款高端显微镜,可用于抽样检查或缺陷自动检测。Zeta-300 3D 轮廓仪通过提供全面的台阶高度、粗糙度及薄膜厚度测量以及缺陷检测功能,来支持研发 (R&D) 和生产环境。







Zeta-300 光学轮廓仪特征优势

  • 配合ZDot及多模式光学组件,光学轮廓仪可以容易地实现各种各样的应用

  • 用于抽样检查和缺陷检测的高质量显微镜

  • ZDot:同时收集高分辨率的3D扫描扫描信息和样品表面真彩色图像

  • ZXI:采用z方向高分辨率的广域测量白光干涉仪

  • ZIC:图像对比度增强,可实现亚纳米级粗糙度表面的定量分析

  • ZSI:z方向高分辨率

  • 图像的剪切干涉测量法

  • ZFT:通过集成式宽频反射测量法测量薄膜厚度和反射率

  • AOI:自动光学检测,可量化样品缺陷

  • 生产能力:具有多点量测和图形识别功能的全自动测量






Zeta-300 光学轮廓仪应用功能

    • 台阶高度:从纳米级到毫米级的3D 台阶高度

    • 表面:光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波纹度测试

    • 翘曲:2D或3D翘曲

    • 应力:2D或3D薄膜应力

    • 薄膜厚度:透明薄膜厚度由 30nm 至 100?m 不等

    • 缺陷检测:捕获大于 1?m 的缺陷

    • 缺陷表征:KLARF 文件可用于寻找缺陷,以确定划痕缺陷位置,测量缺陷3D表面形貌




Zeta-300 光学轮廓仪应用领域

  • 发光二极管(LED)

  • 发光二极管和 PSS(图形化的蓝宝石衬底)

  • 半导体和化合物半导体

  • 半导体 WLCSP(晶圆级芯片封装)

  • 半导体 FOWLP(扇出晶圆级封装)

  • PCB(印刷电路板)和柔性印刷电路板

  • MEMS:微机电系统

  • 医疗器械和微流体器件

  • 数据存储

  • 大学、研究实验室和研究所



Zeta-300 光学轮廓仪应用案例

肖特玻璃-表面粗糙度

        可用来测试玻璃等透明表面及不透明表面的形貌和表面粗糙度



太阳能电池–不同反射率表面形貌测量

        轻松获得复杂差异化反射率样品的表面形貌



MEMS器件–台阶高度和粗糙度

    小尺寸样品nm级台阶精度,大尺寸样品的亚微米台阶精度



镜头-完整的表面轮廓

       图像拼接功能,可获得大面积样品的完整表面轮廓


高分子薄膜-膜厚测量

       可用于PI和PR薄膜的厚度测量,并可生成整片晶圆上的膜厚mapping





蓝宝石-图案化晶片表面缺陷

        可对特定缺陷进行三维轮廓扫描并进行相关测量,并对晶圆表面缺陷按尺寸、亮度、长宽比等进行分布统计并生成mapping





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上海耀他科技有限公司是一家高新科技公司,服务大中华地区(包含中国大陆,香港,台湾和澳门)的客户,专注于为高校、研究所、企业研发及FAB厂提供技术咨询、产品销售和售后技术支持。 上海耀他科技有限公司主要产品包括薄膜工艺系统、表面分析检测系统以及其他微纳尺度工艺所涉及的相关系统。在薄膜工艺系统领域,产品覆盖薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备等,典型的工艺系统涉及PVD物***相沉积(磁控溅射、热蒸镀、电子束蒸镀)、CVD化学气相沉积(PECVD、ALD、PA-MOCVD)、干法刻蚀(RIE、ICP、DRIE、IBE、RIBE)、晶圆/掩模版清洗系统(单晶圆清洗、兆声清洗),应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。在表面分析检测领域,产品涉及用于材料表面分析应用的飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)、用于气体分析的电子电离质谱(TOF-MS)等。

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法定代表人 张文闯 公司成立日期 2022-07-06
营业期限 2022-07-06至2042-07-05 经营范围 一般项目:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广;软件开发;计算机系统服务;广告制作;广告发布;广告设计、代理;企业形象策划;专业设计服务;企业管理咨询;市场调查(不含涉外调查);图文设计制作;项目策划与公关服务;会议及展览服务;信息技术咨询服务;信息咨询服务(不含许可类信息咨询服务);组织文化艺术交流活动;互联网销售(除销售需要许可的商品);电子产品销售;计算机软硬件及辅助设备零售;实验分析仪器销售;仪器仪表销售;机械设备销售;半导体器件专用设备销售;第一类医疗器械销售;货物进出口;技术进出口;电子元器件与机电组件设备销售。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)许可项目:建设工程施工;网络文化经营。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动,具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准)
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