是否进口:否 | 产地: | 加工定制:是 |
品牌:隽思 | 型号:JS-MOL100 | 功率:6.9W |
材质:不锈钢 | 温度范围:230℃ | 主要用途:半导体,集成电路 |
产品认证:CE |
坚膜烘箱 百级洁净烘箱 氮气无尘烘箱注意事项
坚膜就是通过加温烘烤使胶膜更加牢固的粘附在晶圆表面,并可以增加胶层的抗刻蚀能力的一道光刻胶工艺。
坚膜并不是一道必需工艺。如后续为刻蚀工艺,建议进行坚膜,来提高光刻胶的稳定性,如果后续 工艺为lift-off工艺,一般不建议进行坚膜工艺,因为坚膜后光刻胶稳定性提高,反而不利于剥离的进行。
另外,一定要注意坚膜的温度,过高的温度会光刻胶结构变形、融化甚至图形消失。
坚膜烘箱 百级洁净烘箱 氮气无尘烘箱光刻胶变化
1)热变形
非交联型光刻胶的结构,即显***的正胶和图形反转胶结构在加热后的软化温度取决于前面软烘烤工艺。
2)溶剂变化
减少残留溶剂的含量实际上是匀胶工艺后前烘步骤的意义。然而,在厚胶工艺的情况下,即使是在推荐的前烘条件下,在靠近衬底附近的光刻胶中仍然包含相当高的溶剂。
3)光引发剂热分解
在正胶情况下,相当一部分光引发剂在120℃下 几分钟内就会分解。虽然在显***不再需要光引发剂进行光反应,但在未曝光状态下,它有助于提高光刻胶膜在碱性环境中的稳定性,以及用于随后的湿法蚀刻步骤或在pH值为>7的溶液中进行的电镀工艺。
4)热交联
在正胶情况下,树脂在130℃-140℃下热交联强度逐渐增强,这可以***提高光刻胶对碱性或有机溶剂的化学稳定性。
5)光刻胶脆性
在烘烤过程中,残余溶剂的含量进一步降低以至于光刻胶结构的弹性也随之降低,同时光刻胶结构与氧气反应,在120 -130℃左右开始光刻胶开始脆化。光刻胶和衬底材料的不同热膨胀系数不同会导致裂纹的产生。产生的这些光刻胶裂纹对后续湿法刻蚀与电镀的影响是非常不利的。
坚膜烘箱 百级洁净烘箱 氮气无尘烘箱工艺特点
如果必须做坚膜工艺,可以通过控制降温速度来减小裂纹的形成。例如,通过随炉子冷却来减小裂纹的产生。出于同样的原因,烘烤后的衬底应小心处理,并应避免变形,如衬底弯曲,这些对于PI胶做钝化层(PI固化炉)的应用显得尤为重要。
坚膜烘箱技术性能
全周激光满焊,SUS304#不锈钢电热产生器,防机台本身产生微尘;
采用特殊风道,水平送风,温度均匀性佳;
可定值运行,多段程序运行;
设备采用双腔室一体设计,独立控制,节省空间;
温度范围: RT+10~200、300/400℃;
温度均匀度:≤±1.5%℃;
洁净度:class100,适用洁净间;
设备尺寸:45*45*50(CM)
计时功能:0~ 99H99M可调;
降温方式:可选配
保温材料:超细陶瓷纤维;
隔 板:1-10层;
上海隽思仪器具有自主开发、设计、生产加工能力。服务于电子、电力、通讯、航空航天等行业;多年来,公司以“真挚的服务、***的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的一致好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善! 公司拥有多台***的专业生产设备,公司是一个多年专注热处理设备、仪器设备的生产厂家,拥有高***的技术人才,高素质的工作团队,丰富的生产经验。主要业务项目有:半导体湿法设备,恒温加热板,烤胶机,洁净烘箱,百级无尘烘箱,氮气烘箱,智能型HMDS真空系统,HMDS烘箱,无尘无氧烤箱,厌氧烘箱,高温无尘无氧化烘箱,高温无氧烘箱,高温真空无氧烘箱,真空烘箱,干燥烘箱,黑蒜设备,环境可靠性设备(高低温箱、小型高低温试验机、恒温恒湿箱、***温试验箱、高低温冲击箱等),电线电缆检测仪器等设备,同时可根据客户要求设计非标类最适用的产品
点击查看>企业类型 | 有限责任公司(自然人投资或控股) | 注册资本 | 100.00万人民币 |
公司注册地址 | 上海市松江区新浜镇许村公路601号 | 统一社会信用代码 | 91310117561870938T |
登记机关 | 松江区市场监督管理局 | 法定代表人 | 冉续红 |
公司成立日期 | 2010-09-03 | 营业期限 | 2010-09-03 至 2040-09-02 |
经营范围 | 实验仪器、日用百货、金属材料、机电设备、五金交电批发零售;实验仪器领域内的技术咨询、技术服务、技术开发、技术转让,实验仪器设备、制冷设备、干燥箱生产、加工、销售、维修。 【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】 |