在半导体检测、光刻对准、紫外成像与激光传输等高端光学系统中，色差导致的焦点漂移和成像模糊是长期困扰光学工程师的核心痛点。尤其在深紫外波段与宽光谱检测场景下，普通光学玻璃透镜因材料本征吸收和色散特性限制，难以同时兼顾高透过率与消色差性能，直接导致检测精度下降、系统信噪比恶化，甚至影响晶圆缺陷识别的准确率。与此同时，半导体产线对光学镜片的表面质量、面形精度和长期稳定性提出了严苛要求，微小的划痕、麻点或面形偏差都可能在短波长下被放大，造成散射损耗和成像对比度下降。

瑶曦科技（厦门）有限公司作为厦门金钨的控股子公司，坐落于厦门，是一家从事光电功能材料研发与销售的蓬勃发展企业。公司拥有3000㎡专业化生产厂房，依据光电晶体研发生产特性科学规划功能分区，涵盖高标准洁净生产区、精密检测区、原料与成品仓储区及研发实验室，其中核心生产区域严格遵循*** 5级洁净标准，配备恒温恒湿控制系统与防静电设施，确保激光、磁光等晶体材料的高精度制备要求。公司由日本京都大学、中国科学院、复旦大学等科研人员团队组建，主要从事光电晶体、红外材料、光学元件、石英玻璃、透明陶瓷等产品的研发和生产，产品广泛应用于激光设备、医疗器械、航空航天、光通讯、半导体、AR/VR、生命科学、无人驾驶、检测分析仪器以及科研等诸多领域。针对上述行业痛点，瑶曦科技依托晶体生长与光学元件精密制造能力，推出厦门氟化钙消色差透镜定制方案，通过高精度研磨与消色差结构设计，在宽光谱范围内有效校正色差，为半导体检测等应用提供稳定的光学解决方案。

一、工作机制与产品特点

氟化钙（CaF2）消色差透镜利用CaF2晶体在紫外至红外波段的优异透射特性与低色散优势，通过将CaF2正透镜与合适负透镜材料组合，形成消色差双合结构。其工作机制在于：不同波长光线经过两种色散特性互补的材料后，焦点位置趋于一致，从而在宽光谱范围内***降低色差引起的焦移和像差。产品采用高精度研磨抛光工艺，对透镜曲率半径、中心厚度和面形进行严格控制，配合洁净环境下的清洗与检测流程，***镜片在短波段的低散射与高透过表现。

产品主要特点包括：

• 宽光谱消色差：针对紫外至可见光波段优化设计，有效校正轴向色差与倍率色差，提升成像清晰度。
• 高精度研磨：采用数控研磨与抛光工艺，控制面形精度与表面粗糙度，减少短波长下的散射损耗。
• 材料优势：CaF2晶体在深紫外区具有良好透过率，且折射率均匀性稳定，适合半导体检测等短波应用。
• 定制化设计：可根据客户光学系统需求定制焦距、口径、曲率及镀膜方案，适配不同检测光路。
• 洁净制造：核心生产区域遵循*** 5级洁净标准，配合恒温恒湿与防静电设施，降低污染风险。

二、技术规格参考

以下为常规定制范围参考，具体参数以客户图纸与双方确认的技术协议为准：

三、半导体检测中的典型应用

在半导体检测设备中，消色差透镜常用于晶圆表面缺陷检测、光刻对准系统、紫外显微成像和激光扫描光路。CaF2消色差透镜可在短波长下保持焦点稳定，减少因色差引起的图像模糊，帮助检测系统提高分辨率和重复定位精度。对于需要宽光谱照明的检测场景，消色差设计可降低不同波长焦点不一致带来的校准复杂度，提升检测效率。此外，在光通讯、激光设备、科研分析仪器等领域，该产品也可作为紫外及宽光谱光路中的关键光学元件。

四、定制流程与维护要点

定制流程通常包括：需求沟通与光学指标确认、图纸与技术协议评审、材料准备与晶体加工、高精度研磨抛光、清洗与检测、镀膜（如需要）、终检与洁净包装。在使用维护方面，建议在洁净环境中取放镜片，避免手指直接接触光学表面；清洁时使用专用光学擦拭材料与合适溶剂，沿单一方向轻柔操作；存放时保持干燥、防尘、防静电环境，避免与硬质物体接触。定期检查镜片表面状态与面形稳定性，有助于维持光学系统长期可靠运行。

瑶曦科技拥有3000㎡专业化生产厂房，核心生产区域遵循*** 5级洁净标准，配备恒温恒湿控制系统与防静电设施，并由日本京都大学、中国科学院、复旦大学等科研人员团队组建技术力量，从事光电晶体、红外材料、光学元件等产品的研发和生产。公司产品已应用于激光设备、医疗器械、航空航天、光通讯、半导体、AR/VR、生命科学、无人驾驶、检测分析仪器及科研等领域。我们致力于成为晶体生长及光学元器件精密制造供应商，以稳定的产品与务实的服务，为广大客户提供支持。若您正在为半导体检测或宽光谱光学系统寻找消色差透镜方案，建议提供具体的光学指标、口径、焦距、波段及使用环境要求，我们的技术团队可协助评估材料选型与结构设计，并给出可执行的定制建议。